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超声波清洗机

浸洗、煮洗法浸洗、煮洗是一种比较原始的清洗办法。 浸洗是将待清洗的零、部件浸泡在清洗液外依托清洗液和污垢之间发生的物理、化学反应而使污垢逐渐软化、亲松逐步转为逛离状态，从零、部件表面脱落下去。 浸洗的清洗时间较长效率也比较低。但它具有清洗设备简单、需用的人工少等优点，因而得到了广泛的应用。煮洗是将清洗液加热直至沸腾的一种清洗办法。清洗液在加热过程外清洗性能进一步进步。同时油污及油脂也果温度升高而软化或者溶化清洗液被加热后上下自然对流使污垢易于从被清洗件上清洗下去。煮洗的效率要较浸洗的为高。 浸洗、煮洗所使用的清洗设备主要有清洗槽和加热系统。

超声波清洗机工艺流程

2、镀膜前清洗镀膜前清洗的主要污染物是求芯油（也称磨边油，烘干设备，求芯也称定芯、取芯，指为了得到规定的半径及芯精度而选用的工序）、手印、灰尘等。由于镀膜工序对镜片洁净度的要求极为严格，因此清洗剂的选择是很重要的。在考虑某种清洗剂的清洗能力的同时，还要考虑到他的腐蚀性等方面的问题。

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5、 光学器件——照相机镜头，显微镜，望远镜，眼镜，钟表玻璃，烘干机设备，光学透镜的研磨后，镀膜前清洗。6、 容器类--各种口i服液容器，食品玻璃金属容器，化妆品容器类，烘干设备厂，包装容器类，牙i科器具清洗、检验板。7、 医i用器具--内窥镜，手术器械，注i射器，烘干设备厂家，试管，生化检验容器，玻璃片的血液，组织液，污物清洗。8、 中药材有效成份萃取--替代传统的高温水煮萃取工艺，高i效并保护有效成份。9、 电子制造、通讯、计算机——SMT贴片，PCB板焊接后的助焊剂，杂质清洗。10、 微电子——单晶硅片，集成电路制造的工序过程清洗。